Von dem Buch Silizium-Halbleitertechnologie haben wir 7 gleiche oder sehr ähnliche Ausgaben identifiziert!
Falls Sie nur an einem bestimmten Exempar interessiert sind, können Sie aus der folgenden Liste jenes wählen, an dem Sie interessiert sind:
100%: Ulrich Hilleringmann: Silizium-Halbleitertechnologie (ISBN: 9783834820853) Springer Fachmedien Wiesbaden, in Deutsch.Nur diese Ausgabe anzeigen…
100%: Hilleringmann, Ulrich: Silizium-Halbleitertechnologie (Teubner Studienbücher Technik) (ISBN: 9783519201496) 2002, 3. Ausgabe, in Deutsch, Taschenbuch.Nur diese Ausgabe anzeigen…
100%: Ulrich Hilleringmann: Silizium-Halbleitertechnologie (ISBN: 9783663058533) in Deutsch, auch als eBook.Nur diese Ausgabe anzeigen…
100%: Ulrich Hilleringmann: Silizium-Halbleitertechnologie (ISBN: 9783322940728) Springer Nature, in Deutsch, auch als eBook.Nur diese Ausgabe anzeigen…
100%: Ulrich Hilleringmann: Silizium-Halbleitertechnologie (ISBN: 9783658423773) Springer Fachmedien Wiesbaden GmbH, in Deutsch, Broschiert.Nur diese Ausgabe anzeigen…
50%: Hilleringmann, Ulrich: Silizium-Halbleitertechnologie (Teubner Studienbücher Technik) (ISBN: 9783519301493) 2004, 4. Ausgabe, in Deutsch, Taschenbuch.Nur diese Ausgabe anzeigen…
50%: Hilleringmann, Ulrich: Silizium-Halbleitertechnologie (ISBN: 9783834813350) 2014, 6. Ausgabe, in Deutsch, Taschenbuch.Nur diese Ausgabe anzeigen…
Silizium-Halbleitertechnologie - 3 Angebote vergleichen
Bester Preis: € 39,99 (vom 17.10.2015)1
Silizium-Halbleitertechnologie
DE NWISBN: 9783834820853 bzw. 3834820857, in Deutsch, neu.
Lieferung aus: Deutschland, zzgl. Versandkosten, Sofort per Download lieferbar.
Grundlagen mikroelektronischer Integrationstechnik, Ein Lehrbuch zu den grundlegenden Verfahren der Mikroelektronik und Integrationstechniken. Grundlage der mikroelektronischen Integrationstechnik ist die Silizium-Halbleitertechnologie. Sie setzt sich aus einer Vielzahl von sich wiederholenden Einzelprozessen zusammen, deren Durchführung und apparative Ausstattung extremen Anforderungen genügen müssen, um die geforderten Strukturgrößen bis zu wenigen 10 nm gleichmäßig und reproduzierbar zu erzeugen. Das Zusammenspiel der Oxidationen, Ätzschritte und Implantationen zur Herstellung von MOS- und Bipolarschaltungen werden - ausgehend vom Rohsilizium bis zur gekapselten integrierten Schaltung - aus Sicht des Anwenders erläutert. Das Buch behandelt neben den Grundlagen auch die technische Durchführung der Einzelprozesse zur Integrationstechnik.In der 6. Auflage ...
Grundlagen mikroelektronischer Integrationstechnik, Ein Lehrbuch zu den grundlegenden Verfahren der Mikroelektronik und Integrationstechniken. Grundlage der mikroelektronischen Integrationstechnik ist die Silizium-Halbleitertechnologie. Sie setzt sich aus einer Vielzahl von sich wiederholenden Einzelprozessen zusammen, deren Durchführung und apparative Ausstattung extremen Anforderungen genügen müssen, um die geforderten Strukturgrößen bis zu wenigen 10 nm gleichmäßig und reproduzierbar zu erzeugen. Das Zusammenspiel der Oxidationen, Ätzschritte und Implantationen zur Herstellung von MOS- und Bipolarschaltungen werden - ausgehend vom Rohsilizium bis zur gekapselten integrierten Schaltung - aus Sicht des Anwenders erläutert. Das Buch behandelt neben den Grundlagen auch die technische Durchführung der Einzelprozesse zur Integrationstechnik.In der 6. Auflage ...
2
Silizium-Halbleitertechnologie
DE NWISBN: 9783834820853 bzw. 3834820857, in Deutsch, Springer Fachmedien Wiesbaden, neu.
Lieferung aus: Schweiz, zzgl. Versandkosten, Sofort per Download lieferbar.
Grundlagen mikroelektronischer Integrationstechnik, Ein Lehrbuch zu den grundlegenden Verfahren der Mikroelektronik und Integrationstechniken. Grundlage der mikroelektronischen Integrationstechnik ist die Silizium-Halbleitertechnologie. Sie setzt sich aus einer Vielzahl von sich wiederholenden Einzelprozessen zusammen, deren Durchführung und apparative Ausstattung extremen Anforderungen genügen müssen, um die geforderten Strukturgrössen bis zu wenigen 10 nm gleichmässig und reproduzierbar zu erzeugen. Das Zusammenspiel der Oxidationen, Ätzschritte und Implantationen zur Herstellung von MOS- und Bipolarschaltungen werden - ausgehend vom Rohsilizium bis zur gekapselten integrierten Schaltung - aus Sicht des Anwenders erläutert. Das Buch behandelt neben den Grundlagen auch die technische Durchführung der Einzelprozesse zur Integrationstechnik.In der 6. Auflage ...
Grundlagen mikroelektronischer Integrationstechnik, Ein Lehrbuch zu den grundlegenden Verfahren der Mikroelektronik und Integrationstechniken. Grundlage der mikroelektronischen Integrationstechnik ist die Silizium-Halbleitertechnologie. Sie setzt sich aus einer Vielzahl von sich wiederholenden Einzelprozessen zusammen, deren Durchführung und apparative Ausstattung extremen Anforderungen genügen müssen, um die geforderten Strukturgrössen bis zu wenigen 10 nm gleichmässig und reproduzierbar zu erzeugen. Das Zusammenspiel der Oxidationen, Ätzschritte und Implantationen zur Herstellung von MOS- und Bipolarschaltungen werden - ausgehend vom Rohsilizium bis zur gekapselten integrierten Schaltung - aus Sicht des Anwenders erläutert. Das Buch behandelt neben den Grundlagen auch die technische Durchführung der Einzelprozesse zur Integrationstechnik.In der 6. Auflage ...
3
Silizium-Halbleitertechnologie
DE NWISBN: 9783834820853 bzw. 3834820857, in Deutsch, neu.
Lieferung aus: Schweiz, zzgl. Versandkosten, Sofort per Download lieferbar.
Grundlagen mikroelektronischer Integrationstechnik, Ein Lehrbuch zu den grundlegenden Verfahren der Mikroelektronik und Integrationstechniken. Grundlage der mikroelektronischen Integrationstechnik ist die Silizium-Halbleitertechnologie. Sie setzt sich aus einer Vielzahl von sich wiederholenden Einzelprozessen zusammen, deren Durchführung und apparative Ausstattung extremen Anforderungen genügen müssen, um die geforderten Strukturgrössen bis zu wenigen 10 nm gleichmässig und reproduzierbar zu erzeugen. Das Zusammenspiel der Oxidationen, Ätzschritte und Implantationen zur Herstellung von MOS- und Bipolarschaltungen werden - ausgehend vom Rohsilizium bis zur gekapselten integrierten Schaltung - aus Sicht des Anwenders erläutert. Das Buch behandelt neben den Grundlagen auch die technische Durchführung der Einzelprozesse zur Integrationstechnik.In der 6. Auflage ...
Grundlagen mikroelektronischer Integrationstechnik, Ein Lehrbuch zu den grundlegenden Verfahren der Mikroelektronik und Integrationstechniken. Grundlage der mikroelektronischen Integrationstechnik ist die Silizium-Halbleitertechnologie. Sie setzt sich aus einer Vielzahl von sich wiederholenden Einzelprozessen zusammen, deren Durchführung und apparative Ausstattung extremen Anforderungen genügen müssen, um die geforderten Strukturgrössen bis zu wenigen 10 nm gleichmässig und reproduzierbar zu erzeugen. Das Zusammenspiel der Oxidationen, Ätzschritte und Implantationen zur Herstellung von MOS- und Bipolarschaltungen werden - ausgehend vom Rohsilizium bis zur gekapselten integrierten Schaltung - aus Sicht des Anwenders erläutert. Das Buch behandelt neben den Grundlagen auch die technische Durchführung der Einzelprozesse zur Integrationstechnik.In der 6. Auflage ...
Lade…